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Cluster PECVD等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
編號||娱乐天地苹果:SN20151013154824891
類別|--闭月堂:PECVD係列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術-_|福州华伦中学网站,在光學玻璃-|-覃晶、矽--英玉、石英以及不鏽鋼等不同襯底材料上沉積氮化矽_注册会员送68元彩金、非晶矽和微晶矽等薄膜__-潼南第一人才网,用以製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件|--求购电脑桌。可廣泛應用於大專院校|冰火抽油瘦、科研院所的薄膜材料的科研與小批量製備|||008彩票正规吗。

     

    設備組成

        該係統主要由1個中央傳輸室|云顶国际官网客服、3個PECVD沉積室和一個進/出片室構成-|11选5彩票走势怎么分析,並預留2個腔室接口後續使用_众发娱乐app怎么下载。

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