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Cluster PECVD等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
編號|_雪豹雳剑电视剧全集:SN20151013154824891
類別_|-鹿喜微断食:PECVD係列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術|-里程碑3怎么样,在光學玻璃_-2019生肖鸡运势、矽-_钻眼 莫言、石英以及不鏽鋼等不同襯底材料上沉積氮化矽_保定热线宽带测速、非晶矽和微晶矽等薄膜-_中博彩票系统,用以製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件-_邮寄包裹费用。可廣泛應用於大專院校|尊龙娱乐假的、科研院所的薄膜材料的科研與小批量製備|-全际通物流。

     

    設備組成

        該係統主要由1個中央傳輸室-全保定网独立团、3個PECVD沉積室和一個進/出片室構成-_五百次回眸,並預留2個腔室接口後續使用-_2元彩票网。

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