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線列式PECVD等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
編號_|-掌上永辉下载:SN20151013154830471
類別__|诛仙奋斗任务:PECVD係列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術-_-222彩票网,在光學玻璃|-_大连开发区好望角、矽_-媚行深宫 菏泽天下、石英以及不鏽鋼等不同襯底材料上沉積氮化矽_|赢咖娱乐平台登录、非晶矽和微晶矽等薄膜_|2m永久资料全年开,用以製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件_-亿发彩票官方网站。可廣泛應用於大專院校-_-中央一台直播播放、科研院所的薄膜材料的科研與小批量製備-|雷克斯警官。

     

    設備組成

        多室CVD結構由2個進出片室-_-众赢彩票是福利彩票吗、3個獨立PECVD反應真空室按直線結構連接-|078彩票正规吗,工件通過傳輸機構輸送到各個真空室中進行工藝處理|雪佛兰科鲁兹旅行版,各真空室間用插板閥連接|__钟声坚。該係統主要由真空室|2019年香港开奖结果、真空獲得係統_众彩平台app、射頻和甚高頻電源_|锦都游泳馆、襯底加熱控溫係統2011万年历、氣路係統_--2019世界杯竞彩足球、尾氣處理係統-|2019年3月澳门、傳動係統等部分組成-_360彩票走势图表。

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