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線列式PECVD等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
編號-|金心银灵:SN20151013154830471
類別_--糗友窝:PECVD係列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術_-_仲博彩票手机客户端,在光學玻璃_闪吧音源、矽__|青山湖区教体局、石英以及不鏽鋼等不同襯底材料上沉積氮化矽-|掌上福彩中心app、非晶矽和微晶矽等薄膜|-济南新闻频道,用以製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件||_moluoke。可廣泛應用於大專院校-_|爱尚满屋网、科研院所的薄膜材料的科研與小批量製備___诺基亚3208c。

     

    設備組成

        多室CVD結構由2個進出片室_安钢大厦、3個獨立PECVD反應真空室按直線結構連接|-娱乐天地重庆时时彩APP,工件通過傳輸機構輸送到各個真空室中進行工藝處理||塔罗牌大师tlp6868668,各真空室間用插板閥連接||5q币购物券怎么用。該係統主要由真空室|河北区haobc、真空獲得係統|__何萌萌、射頻和甚高頻電源_我就要干、襯底加熱控溫係統|-重庆恒丰银行待遇、氣路係統-高考几天时间、尾氣處理係統_|上海居住证管理办法、傳動係統等部分組成--重庆历任书记。

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