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PECVD-300型等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
編號-_李攀教你一招:SN20151013154839762
類別__|优乐彩哪里的平台:PECVD係列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術|||诺基亚c202,在光學玻璃__亿彩堂app、矽-_-注册彩票网址送体验金、石英以及不鏽鋼等不同襯底材料上沉積氮化矽_-|众乐彩官网下载、非晶矽和微晶矽等薄膜_银河彩票网y696com,用以製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件|_|veor moda。可廣泛應用於大專院校||-11选5无死角每期必中、科研院所的薄膜材料的科研與小批量製備_唐海二手房出售。

     

    設備組成

        該係統主要由真空反應室-|_李天一受害教师照片、上蓋組件--_周永慷、熱絲架-昆明三对、基片加熱台||-艺术人生周润发、工作氣路09qq、抽氣係統-__易彩娱乐福地、安裝機台|-许小年微博、真空測量及電控係統等部分組成-_苏宁电器五一活动。

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